蒸發(fā)源接陽(yáng)極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，真空鍍鈦加工電話(huà)，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內充有惰性氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氣被電離，從而在陰極工件周?chē)纬梢坏入x子暗區。帶正電荷的離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，單縣真空鍍鈦加工，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空鍍鈦加工多少錢(qián)，進(jìn)入輝光放電區并被電離。


現有鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進(jìn)行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果，能使鍍層直接貼近基體，真空鍍鈦加工價(jià)格，有效地增強了附著(zhù)力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應。

PVD（Physical Vapor Deition），在真空條件下，采用物理方法，使材料源表面氣化成原子、分子或離子，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類(lèi)。

蒸發(fā)鍍膜

真空條件下，將鍍料加熱蒸發(fā)或升華，材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術(shù)。根據加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。

采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù)，一般用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料，如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等；加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。

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